シリカガラス(アモルファスSiO2)は様々な分野で利用される光学材料です．その中に生成される酸素欠陥は光学特性に大きな影響を与えるため，盛んに研究されてきました．我々は，ガラス中の応力分布と欠陥形成の間に相関があることを見出し，欠陥を含まない系から欠陥形成を予見できることを提案しました．産業技術総合研究所とCNRS(フランス国立科学研究センター)との共同研究です．

https://link.aps.org/doi/10.1103/pm9m-n49m